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對于(yu)研磨(mo)機來說,主要是在維持(chi)研磨(mo)所(suo)取得良好的平面(mian)度(du)前提下,去除工(gong)件表(biao)面(mian)微小(xiao)的凸起和表(biao)面(mian)損傷層,以獲得鏡面(mian)光度(du)。所(suo)以要求(qiu)均與(yu)、無方向性地拋光整個工(gong)件表(biao)面(mian)。反映在速(su)度(du)上,就是工(gong)件表(biao)面(mian)上每一點的相對速(su)度(du)大小(xiao)應(ying)在任何時候都保持(chi)恒定。
平面研磨機(ji)鏡面加(jia)工技(ji)術是一(yi)門新興(xing)的(de)(de)(de)綜(zong)合(he)性(xing)加(jia)工技(ji)術,它(ta)集成(cheng)了現代(dai)機(ji)械、光學、電(dian)子計算機(ji)、測量及材料等(deng)先進技(ji)術成(cheng)就,已成(cheng)為國家科(ke)學技(ji)術發(fa)展水平的(de)(de)(de)重(zhong)要(yao)標志。隨(sui)著各種(zhong)新型功能(neng)陶瓷(ci)材料的(de)(de)(de)不斷研制(zhi)成(cheng)功,以(yi)及這些材料在各種(zhong)高(gao)(gao)性(xing)能(neng)電(dian)子元器件(jian)、光學、信(xin)息系統等(deng)領域的(de)(de)(de)廣(guang)泛(fan)應用(yong),要(yao)求(qiu)元件(jian)和零件(jian)的(de)(de)(de)加(jia)工精(jing)度越(yue)來越(yue)高(gao)(gao),有的(de)(de)(de)甚至要(yao)求(qiu)達到納(na)米級或更高(gao)(gao)的(de)(de)(de)加(jia)工精(jing)度以(yi)及無損傷的(de)(de)(de)表面加(jia)工質量。
工件(jian)(jian)(jian)是不變(bian)形(xing)的(de)剛體,拋(pao)(pao)光(guang)盤是能按工件(jian)(jian)(jian)加(jia)工面(mian)形(xing)狀(zhuang)變(bian)形(xing)的(de)彈性體。這時(shi)可(ke)以忽(hu)略(lve)介于(yu)兩(liang)者之(zhi)間的(de)磨(mo)(mo)粒(li)與(yu)加(jia)工液的(de)厚(hou)度(du)和形(xing)狀(zhuang)變(bian)化,認(ren)為(wei)工件(jian)(jian)(jian)與(yu)拋(pao)(pao)光(guang)盤間貼緊(jin);當(dang)工件(jian)(jian)(jian)尺寸大(da)于(yu)拋(pao)(pao)光(guang)盤半徑(jing),或(huo)(huo)偏心距過(guo)大(da)時(shi),工件(jian)(jian)(jian)會露出拋(pao)(pao)光(guang)盤,既(ji)有一(yi)部分(fen)表(biao)(biao)面(mian)不能與(yu)拋(pao)(pao)光(guang)盤始終接觸;當(dang)研磨(mo)(mo)或(huo)(huo)拋(pao)(pao)光(guang)過(guo)程中,工件(jian)(jian)(jian)材料平行度(du)誤差超出允許范(fan)圍時(shi)就(jiu)需要(yao)對其平行度(du)進行修正。 在(zai)平面(mian)拋(pao)(pao)光(guang)機的(de)鏡面(mian)拋(pao)(pao)光(guang)加(jia)工工序中,可(ke)以認(ren)為(wei)工件(jian)(jian)(jian)的(de)去除量(liang)主要(yao)是由磨(mo)(mo)削(xue)路(lu)徑(jing)的(de)長度(du)決定的(de),因此直接控(kong)制工件(jian)(jian)(jian)表(biao)(biao)面(mian)的(de)磨(mo)(mo)削(xue)路(lu)徑(jing)長度(du)能夠更加(jia)精確控(kong)制工件(jian)(jian)(jian)的(de)去除量(liang)。